| 基于数字微反射镜灰度光刻的成像模型 |
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| 引用本文： | 郭小伟,杜惊雷,罗铂靓,郭永康,杜春雷.基于数字微反射镜灰度光刻的成像模型[J].光子学报,2006,35(9):1412-1416. |
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| 作者姓名： | 郭小伟 杜惊雷 罗铂靓 郭永康 杜春雷 |
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| 作者单位： | 1. 四川大学物理学院,成都,610064
2. 中国科学院光电技术研究所,成都,610209 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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微细加工国家重点实验基金 |
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| 摘 要： | 在深入探讨DMD(Digital Mirror Device)灰度图形传递的特点基础上，把曝光量分布作为分析数字光刻成像的物理量，建立了数字灰度光刻的成像模型.以制作微米量级微透镜为例，通过模拟分析，讨论了数字光刻过程中DMD的工作方式、成像系统参量对抗蚀剂曝光量分布的影响，揭示了数字灰度光刻成像机理，为开展数字光刻实验研究提供了理论根据.
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| 关 键 词： | 数字灰度光刻 DMD 成像模型 曝光量 |
| 收稿时间： | 2005-06-02 |
| 修稿时间： | 2005年6月2日 |
Imaging Model for DMD-Based Gray-tone Lithography System |
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| Guo Xiaowei,Du Jinglei,Luo Boliang,Guo Yongkang,Du Chunlei.Imaging Model for DMD-Based Gray-tone Lithography System[J].Acta Photonica Sinica,2006,35(9):1412-1416. |
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| Authors: | Guo Xiaowei Du Jinglei Luo Boliang Guo Yongkang Du Chunlei |
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| Institution: | 1 Institute of Information Optics, Sichuan University, Chengdu 610064; 2 Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, Chengdu 610209 |
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| Abstract: | The characteristic of the gray-tone pattern generate d by DMD is discussed and an imaging model for describing the digital gray-tone lithography process is developed. In addition, the effects of DMD operation mod e and the parameters of imaging system to the distribution of the exposure dose on the photoresist are simulated and discussed.The model will be helpful for th e experimental research on the digital lithography. |
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| Keywords: | Digital gray-tone lithography DMD Imaging model Exposure dose |
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