| RIE精确传递微光学三维结构于红外材料的方法 |
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| 引用本文： | 邱传凯,杜春雷,潘丽,曾红军,王永茹.RIE精确传递微光学三维结构于红外材料的方法[J].光子学报,1999,28(9). |
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| 作者姓名： | 邱传凯 杜春雷 潘丽 曾红军 王永茹 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点开放实验室,成都,610209 |
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| 摘 要： | 本文对红外光学材料锗的蚀刻性能、机制进行了深入的研究,在反应离子蚀刻(RIE)实验基础上,建立了锗材料蚀刻性能与RIE工艺参量的关系,经过大量的实验,找到了稳定蚀刻速率的方法和条件,为用RIE技术形成高精度衍射微光学元件积累了实用经验.
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| 关 键 词： | 反应离子蚀刻 微浮雕结构 蚀刻率 |
THE METHOD FOR TRANSFERRING MICRO OPTICAL PROFILE INTO GERMANIUM ACCURATELY BY RIE |
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| Qiu Chuankai,Du Chunlei,Pan Li,Zeng Hongjun,Wang Yongru.THE METHOD FOR TRANSFERRING MICRO OPTICAL PROFILE INTO GERMANIUM ACCURATELY BY RIE[J].Acta Photonica Sinica,1999,28(9). |
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| Authors: | Qiu Chuankai Du Chunlei Pan Li Zeng Hongjun Wang Yongru |
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