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| 火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料 | |
| 引用本文： | 郑伟,吴远大,邢华,张乐天,李爱武,刘国范,张玉书.火焰水解法制备Si02—Ge02平面波导材料[J].光子学报,2002,31(Z2):253-256. |
| 作者姓名： | 郑伟 吴远大 邢华 张乐天 李爱武 刘国范 张玉书 |
| 摘 要： | 本文采用火焰水解法（FHD）在单晶Si片上快速淀积SiO2/SiO2-GcO2厚膜，再经过高温玻璃化处理，获得了玻璃态的平面波导材料。下包层SiO2膜的厚度约为40μm，波长1550nm处的折射率为1.4462，芯层SiO2-GeO2膜的厚度为5μm，折射率为1.4631。分别采用XRD、XPS、SEM和椭偏仪等对波导材料表面特性和折射率等进行了测试分析。 |
| 关 键 词： | 火焰水解法 Si02－Ge02平面波导材料 玻璃态 折射率 表面特性 测试 二氧化硅 二氧化锗 |
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