首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

手征介质与陈绝缘体界面附近原子的自发辐射研究
引用本文:王驰,曾然,侯金鑫,李浩珍,李齐良,毕美华,羊亚平.手征介质与陈绝缘体界面附近原子的自发辐射研究[J].光子学报,2019,48(2).
作者姓名:王驰  曾然  侯金鑫  李浩珍  李齐良  毕美华  羊亚平
作者单位:杭州电子科技大学 通信工程学院,杭州,310018;杭州电子科技大学 通信工程学院,杭州 310018;同济大学 物理科学与工程学院 先进微结构材料教育部重点实验室,上海 200092;同济大学 物理科学与工程学院 先进微结构材料教育部重点实验室,上海,200092
基金项目:国家自然科学基金;国家自然科学基金;浙江省自然科学基金
摘    要:对手征特异材料介质与陈绝缘体材料界面附近二能级原子的自发辐射特性进行了研究.推导计算了手征介质界面及其与陈绝缘体材料界面的反射系数矩阵,并根据并矢格林函数求得此环境下二能级原子自发衰减率的表达式.对手征介质和陈绝缘体材料特性参数影响下的原子自发辐射进行了数值计算,分别对平行和垂直于界面的偶极子自发衰减率进行讨论,并对辐射模式和消逝模式下的自发辐射进行了分析.结果表明,由于手征参量的存在,手征介质界面附近的原子自发衰减率与普通介质相比被增强.陈绝缘体则使得界面附近原子的自发辐射被明显抑制,且当手征参量较大时,陈绝缘体的抑制效应更加显著.

关 键 词:量子光学  自发辐射  手征介质  陈绝缘体  二能级原子
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号