| 直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度 |
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| 引用本文： | 邹文祥,赖珍荃,刘文兴.直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度[J].光子学报,2011,40(1). |
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| 作者姓名： | 邹文祥 赖珍荃 刘文兴 |
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| 作者单位： | 南昌大学,物理系,南昌330031 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重点项目，中国科学院红外物理国家重点实验室开放基金 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的X射线衍射图中均出现了六方相的AlN(100)、(110)和弱的(002)衍射峰,说明所制备的AlN薄膜为多晶态,在傅里叶变换红外光谱中,在波数为677 cm-1处有明显的吸收峰;随着溅射气压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,而薄膜的沉积速率先增大后减少,且沉积速率较大有利于减小薄膜的表面粗糙度;在溅射气压为0.6 Pa时,薄膜具有最小的表面粗糙度和最大的沉积速率.
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| 关 键 词： | AlN薄膜 溅射气压 结构 表面粗糙度 |
Structure and Surface Roughness of AlN Thin Films Grown Processing by Direct Current Magnetron Sputtering |
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| ZOU Wen-xiang,LAI Zhen-quan,LIU Wen-xing.Structure and Surface Roughness of AlN Thin Films Grown Processing by Direct Current Magnetron Sputtering[J].Acta Photonica Sinica,2011,40(1). |
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| Authors: | ZOU Wen-xiang LAI Zhen-quan LIU Wen-xing |
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