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BaTiO_3晶体薄膜PLD法生长工艺参量研究
引用本文:张静,付秀华,杨飞,杨彬,孙德贵.BaTiO_3晶体薄膜PLD法生长工艺参量研究[J].光子学报,2014,43(5):531002.
作者姓名:张静  付秀华  杨飞  杨彬  孙德贵
作者单位:张静:长春理工大学, 长春 130022
付秀华:长春理工大学, 长春 130022
杨飞:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 长春 130033
杨彬:哈尔滨工业大学, 哈尔滨 150001
孙德贵:长春理工大学, 长春 130022
基金项目:国家自然科学基金(No. 60977052)资助
摘    要:采用脉冲激光沉积方法在单晶MgO基片上外延生长了BaTiO3晶体薄膜.为改善薄膜的结晶质量和表面粗糙度,研究并优化了生长工艺中生长温度和激光能量两个参量,并对薄膜样片实行原位退火.找到了BaTiO3薄膜在优先方向上的结晶效果,分析了结晶质量对生长温度的依赖关系和不同激光能量对结晶薄膜的表面粗糙度的影响.利用X射线衍射仪测定结晶效果与特性,原子力显微镜表征BaTiO3薄膜的结晶表面形貌与粗糙度.测试结果表明,在c轴取向生长BaTiO3薄膜,在(001)和(002)方向上都出现强度很高的尖锐衍射峰,具有较好的结晶质量和较小的表面粗糙度,原子力显微镜测定出薄膜的表面粗糙度为0.563nm.

关 键 词:光学薄膜  光谱分析  真空镀膜  光学特性  生长温度  激光能量  结晶质量  表面粗糙度
收稿时间:2013/8/26

Growth Process Parameters of BaTiO3 Crystal Thin Film in PLD Method
Abstract:
Keywords:Optical film  Spectral analysis  Vacuum coating  Optical character  Growth temperature  Laser energy  Crystalline quality  Surface roughness
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