| 50～11O nm波段高反射率多层膜的设计与制备 |
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| 引用本文： | 李存霞,王占山,王风丽,朱京涛,吴永荣,王洪昌,程鑫彬,陈玲燕.50～11O nm波段高反射率多层膜的设计与制备[J].光子学报,2007,36(10). |
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| 作者姓名： | 李存霞 王占山 王风丽 朱京涛 吴永荣 王洪昌 程鑫彬 陈玲燕 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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国家高技术研究发展计划(863计划)
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教育部跨世纪优秀人才培养计划
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同济大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 阐述了50～110 nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法.这种膜系是由强吸收材料叠加而成,每层膜光学厚度小于四分之一个波长.与常规周期多层膜相比,这种膜系更适用于提高强吸收波段的反射率.利用该方法设计了50 nm处高反射多层膜,并以此为初始条件通过Levenberg-Marquart优化方法完成了50～110 nm强吸收波段宽带高反射率Si/W/Co多层膜的设计,其平均反射率达到45%.采用直流磁控溅射方法制备了Si/W/Co多层膜,用X射线衍射仪(XRD)对膜层结构进行了测试,测试结果表明制作出的多层膜结构与设计结构基本相符.
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| 关 键 词： | 亚四分之一波长 多层膜 极紫外 高反射率 磁控溅射 |
Design and Fabrication of High Reflection Multilayer for the Wavelength Range 50～110 nm |
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| LI Cun-xia,WANG Zhan-shan,WANG Feng-li,ZHU Jing-tao,WU Yong-rong,WANG Hong-chang,CHENG Xin-bin,CHEN Ling-yan.Design and Fabrication of High Reflection Multilayer for the Wavelength Range 50～110 nm[J].Acta Photonica Sinica,2007,36(10). |
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| Authors: | LI Cun-xia WANG Zhan-shan WANG Feng-li ZHU Jing-tao WU Yong-rong WANG Hong-chang CHENG Xin-bin CHEN Ling-yan |
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