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Ca掺杂对CuCrO_2薄膜形成和电学特性的影响
引用本文:胡冰,揣雅惠,付洋,李雅丹,沈宏志,张红,杨悦,王一丁.Ca掺杂对CuCrO_2薄膜形成和电学特性的影响[J].光子学报,2014(12).
作者姓名:胡冰  揣雅惠  付洋  李雅丹  沈宏志  张红  杨悦  王一丁
作者单位:吉林大学电子科学与工程学院;集成光电子学国家重点实验室吉林大学实验区;
基金项目:国家科技支撑计划(No.2013BAK06B04);国家自然科学基金(No.61077074);科技部863计划(No.2007AA06Z112);吉林省科技发展计划(No.20120707);长春市科技发展计划(No.11GH01)资助
摘    要:采用溶胶凝胶法制备CuCrCaO2薄膜,研究不同气氛、退火温度下,Ca掺杂量对薄膜的形成和电学特性的影响.在N2环境中1 100℃退火,制得CuCr1-xCaxO2(x=0、0.01、0.03、0.05、0.07)薄膜.测量CuCrCaO2薄膜的X射线衍射,在低浓度Ca掺杂时,薄膜结晶良好,晶格常数a、c和平均晶粒尺寸n随掺杂浓度上升而上升;高浓度Ca掺杂时,有杂相生成,a、c、n重新变小,和X射线衍射分析结果相吻合.另将3%Ca掺杂量,分层旋涂后的薄膜分别在空气和N2中以不同温度快速退火,X射线衍射表明在N2条件下,分层次的掺杂使CuCrCaO2结晶取向趋于单一,并且退火温度越高,择优取向越明显.用霍尔仪测量不同Ca掺杂量薄膜的电学特性,x=0.03时薄膜有最佳电导率1.22×10-1S/cm,比未掺杂的薄膜提高了三个数量级,说明适量Ca掺杂有助于提高薄膜电导率,对应的薄膜载流子迁移率为1.77×1018cm-3,正的霍尔系数表明该材料是P型结构.

关 键 词:溶胶-凝胶  掺杂  旋涂  薄膜生长  退火  晶相  分层体系
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