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二阶关联成像系统宽光谱吸收膜研制
引用本文:付秀华,熊仕富,刘冬梅,张静,程慧婷.二阶关联成像系统宽光谱吸收膜研制[J].光子学报,2016(10):167-172.
作者姓名:付秀华  熊仕富  刘冬梅  张静  程慧婷
作者单位:长春理工大学光电工程学院,长春,130022
基金项目:吉林省重大科技攻关专项(No.20140203002GX)资助,The Major Scientific and Technological Projects of Jilin Province(No.20140203002GX)
摘    要:为满足关联成像系统抑制背景的需求,选用Al、Cr和SiO_2作为镀膜材料,依据薄膜吸收理论,结合膜系设计软件设计了宽光谱吸收膜,并采用真空沉积技术获得了该薄膜样品.通过真空阶梯式退火,减小了膜层内应力,解决了薄膜牢固度问题;采用交互式分析对测试结果逆向反演,通过优化工艺参量,使膜系中敏感薄层厚度得以精准控制,并减小了膜厚控制误差.制备的吸收膜在400~1 100nm波段平均吸收率达到99.1%,满足系统使用要求.

关 键 词:薄膜  关联成像  阶梯式退火  逆向反演  内应力  吸收膜

Study and Fabrication Broad Spectral Absorbing Film in Second-order Correlated Imaging System
Abstract:
Keywords:Thin film  Correlated imaging  Stepped vacuum annealing  Reverse inversion  Internal stress  Absorbing film
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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