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基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法
引用本文:刘鑫,张满,庞辉,史立芳,曹阿秀,邓启凌.基于纳米压印的大角度衍射光学元件批量化制备方法[J].光子学报,2016(6):102-106.
作者姓名:刘鑫  张满  庞辉  史立芳  曹阿秀  邓启凌
作者单位:中国科学院光电技术研究所,成都,610209
基金项目:国家自然科学基金(No.61505204)资助 The National Natural Science Foundation of China (No.61505204)
摘    要:针对大角度(大于50°)衍射光学元件低成本、批量化制备的需求,提出一种基于纳米压印技术的制备方法.首先利用光学曝光技术或电子束直写技术制备衍射元件的原始母板,然后将原始母板的结构通过纳米压印过程复制到压印胶上,完成衍射光学元件的制备.由于纳米压印母板可以多次重复使用,降低了制作成本,提高了效率.用该方法制备了不同特征尺寸(最小为250nm,衍射全角为70°)的衍射光学元件,具有良好的衍射效果,实现了对高深宽比浮雕结构的高保真复制.该技术可实现从微米到纳米跨尺度兼容的衍射光学元件的高保真、低成本、批量化制备.

关 键 词:衍射光学元件  低成本  批量化  纳米压印  跨尺度兼容

Fabrication of Large-angle Diffractive Optical Element Based on Nanoimprint Lithography
Abstract:
Keywords:Diffractive Optical elements  Low cost  Mass production  Nanoimprint lithography  Nanometer scale
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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