首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

火焰水解淀积Si02膜的退火研究
引用本文:张乐天,王昕,吴远大,邢华,李爱武,郑伟,张玉书.火焰水解淀积Si02膜的退火研究[J].光子学报,2002,31(Z2):239-243.
作者姓名:张乐天  王昕  吴远大  邢华  李爱武  郑伟  张玉书
作者单位:[1]吉林大学集成光电子国家重点实验室,长春130023 [2]吉林大学文学院,长春130012
摘    要:本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO2膜,然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理。我们利用原子力量微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射仪(XRD)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对SiO2膜进行了测试分析。当退火温度达到1400℃时,SiO2膜致密均匀,适合用作波导的下包层。

关 键 词:硅衬底  光波导  SiO2膜  退火处理  下包层材料  淀积  火焰水解  光通信  波分复用系统  二氧化硅膜
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号