火焰水解淀积Si02膜的退火研究 |
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引用本文: | 张乐天,王昕,吴远大,邢华,李爱武,郑伟,张玉书.火焰水解淀积Si02膜的退火研究[J].光子学报,2002,31(Z2):239-243. |
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作者姓名: | 张乐天 王昕 吴远大 邢华 李爱武 郑伟 张玉书 |
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作者单位: | [1]吉林大学集成光电子国家重点实验室,长春130023 [2]吉林大学文学院,长春130012 |
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摘 要: | 本文采用火焰水解法在Si衬底上淀积了用于光波导下包层材料的SiO2膜,然后将其放入高温炉在空气中进行不同温度的退火处理。我们利用原子力量微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射仪(XRD)及可变入射角椭圆偏振仪(VASE)对SiO2膜进行了测试分析。当退火温度达到1400℃时,SiO2膜致密均匀,适合用作波导的下包层。
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关 键 词: | 硅衬底 光波导 SiO2膜 退火处理 下包层材料 淀积 火焰水解 光通信 波分复用系统 二氧化硅膜 |
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