| 热原子层沉积钛掺杂氧化镓薄膜的光学性能 |
| |
| 引用本文： | 李存钰,朱香平,赵卫,李继超,胡景鹏.热原子层沉积钛掺杂氧化镓薄膜的光学性能[J].光子学报,2023(6):126-135. |
| |
| 作者姓名： | 李存钰 朱香平 赵卫 李继超 胡景鹏 |
| |
| 作者单位： | 1. 中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室;2. 中国科学院大学 |
| |
| 摘 要： | 在250℃的低温下，以三甲基镓、四(二甲氨基)钛为前躯体源，O3为反应气体，采用热原子层沉积制备了Ti掺杂Ga2O3(TGO)薄膜。Ga2O3和TiO2的生长速率分别为0.037 nm/cycle和0.08 nm/cycle,TGO薄膜厚度低于理论计算值。X射线光电子能谱仪测试结果表明膜中Ti浓度随Ga2O3/TiO2循环比减少而增加，O 1s、Ga 2p和Ti 2p的峰位置向较低的结合能移动，这是因为Ti原子取代了Ga原子的某些位点引起了结合能降低，表明Ti元素成功掺杂到Ga2O3薄膜中。TiO2和Ga2O3的芯能级光谱分析表明薄膜中存有Ti4+和Ga3+离子。TGO薄膜的O 1s芯能级光谱中Ga-O键随着Ti-O键含量增加而下降，表明T...
|
| 关 键 词： | 氧化镓薄膜 Ti掺杂Ga2O3薄膜 热原子层沉积 折射率 光学带隙 |
|
|
