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结构选择优化及过正量膜厚控制在激光析光膜中的应用
引用本文:童南春,姚细林,胡勇.结构选择优化及过正量膜厚控制在激光析光膜中的应用[J].光学与光电技术,2004,2(5):17-19.
作者姓名:童南春  姚细林  胡勇
作者单位:华中光电技术研究所,武汉,430073;华中光电技术研究所,武汉,430073;华中光电技术研究所,武汉,430073
摘    要:分忻了膜系设计中的膜层结构选择性优化方法,阐述了用光电极值法控制非λ/4膜系的膜厚的方法计算出沉积每一层县有极值的波长,然后根据此波长,给出一定的过正量进行膜厚模拟,最后确定每‘层的监控波长。利用这种方法可以提高膜系厚度的控制精度。该义介绍了自主开发膜系设计软件的部分功能,并利用该软件设计并镀制出1060nm的激光析光膜。

关 键 词:结构选择性优化设计  极值法  过正控制量  光学监控沉积仿真
文章编号:1672-3392(2004)05-0017-03
收稿时间:2004/2/5
修稿时间:2004年2月5日

Application of Selective-Optimizing Design and Variable Overshoot in Laser Beam-Splitter
TONG Nan-chun,YAO Xi-lin,HU Yong.Application of Selective-Optimizing Design and Variable Overshoot in Laser Beam-Splitter[J].optics&optoelectronic technology,2004,2(5):17-19.
Authors:TONG Nan-chun  YAO Xi-lin  HU Yong
Abstract:This paper introduces the method of selective-optimizing design for some coatings, expatiates how to use the turning-point to control the thickness of non-4/l layers, also presents the way to improve the accuracy of optical monitoring, describing some functions of our software. Using the software, we have successfully designed and manufactured 1060nm laser beam-splitting coatings.
Keywords:selective-optimizing design  turning point monitoring  overshoot  deposition simulation  optical monitoring
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