| 内嵌金属富勒烯Y@C82的制备及同步辐射EXAFS研究 |
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| 引用本文： | 刘蕾,储旺盛,钟俊,马思玄,高斌,吴自玉,甘利华,舒春英,王春儒.内嵌金属富勒烯Y@C82的制备及同步辐射EXAFS研究[J].中国物理 C,2005,29(Z1):102-105. |
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| 作者姓名： | 刘蕾 储旺盛 钟俊 马思玄 高斌 吴自玉 甘利华 舒春英 王春儒 |
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| 作者单位： | 1 中国科学院高能物理研究所 北京 100049;2 中国科学院化学研究所 北京 100080;3 国家纳米中心 北京 100080 |
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| 摘 要： | 内嵌金属富勒烯以其独特的几何结构与电子结构预示其在电子、光电子以及医疗领域有重大的应用前景而受到研究者格外的关注. 详细描述了内嵌金属富勒烯的高效率生产的制备过程, 并通过测定和拟合在低温(25K)下Y@C82的不同k取值范围的EXAFS谱, 可以得到Y@C82中的Y的最近邻和次近邻配位壳层的结构参数, 还可以得知Y-C两个壳层的配位距离基本没有随k的取值范围变化, Y@C82的两个壳层的原子分布即使在低温下也存在比较大的无序.
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| 关 键 词： | 内嵌金属富勒烯 Y@C82 EXAFS |
| 收稿时间： | 2005-10-31 |
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