| 发射光谱法在等离子体刻蚀废气微量F元素检测中的应用研究 |
| |
| 引用本文： | 刘慧杰,黄光周.发射光谱法在等离子体刻蚀废气微量F元素检测中的应用研究[J].光谱实验室,2005,22(2):247-252. |
| |
| 作者姓名： | 刘慧杰 黄光周 |
| |
| 作者单位： | 东莞理工学院电子系,广东省东莞市,523106;华南理工大学电信学院,广州市,510641 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金 6 0 0 71 0 32资助项目 |
| |
| 摘 要： | 以CF4Ar为等离子体刻蚀废气的模拟气体 ,利用发射光谱法分析F。含氟废气中 F原子的发射光谱在6 0 0— 80 0 nm波段内的谱线为 6 97.5 nm和 739.5 nm。研究了电感耦合等离子体放电时射频功率对F元素检测的影响 ,表明提高射频功率可降低 F元素检出限。
|
| 关 键 词： | 发射光谱法 等离子体刻蚀 氟 |
| 文章编号： | 1004-8138(2005)02-0247-06 |
| 修稿时间： | 2004年8月19日 |
Application of Emission Spectrometry in Trace Fluorine Analysis of Flue Gas from Plasma Etching |
| |
| LIU Hui-Jie,HUANG Guang-zhou.Application of Emission Spectrometry in Trace Fluorine Analysis of Flue Gas from Plasma Etching[J].Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory,2005,22(2):247-252. |
| |
| Authors: | LIU Hui-Jie HUANG Guang-zhou |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Emission Spectrometry Plasma Etching Fluorine |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
