| ICP-AES测定钛铝系金属间化合物中钽、硅 |
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| 引用本文： | 高颂,石晓丽,杨春晟.ICP-AES测定钛铝系金属间化合物中钽、硅[J].光谱实验室,2005,22(4):858-860. |
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| 作者姓名： | 高颂 石晓丽 杨春晟 |
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| 作者单位： | 北京航空材料研究院,北京市81信箱19分箱,100095;北京航空材料研究院,北京市81信箱19分箱,100095;北京航空材料研究院,北京市81信箱19分箱,100095 |
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| 摘 要： | 采用ICP-AES法测定钛铝系金属间化合物中Ta、Si的含量,研究了基体元素和共存元素的干扰以及消除方法。在本方法的测定范围内(Si0.05%—1.00%、Ta0.10%—4.00%),钽、硅测量的相对标准偏差(n=8)小于6%。方法简便、快捷,结果准确。
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| 关 键 词： | 电感耦合等离子体-原子发射光谱法 钛铝金属间化合物 钽 硅 |
| 文章编号： | 1004-8138(2005)04-0858-03 |
| 收稿时间： | 2005-05-23 |
| 修稿时间： | 2005年5月23日 |
Determination of Tantalum and Silicon in Ti-Al-Based Intermetallic Compound by ICP-AES |
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| GAO Song,SHI Xiao-li,YANG Chun-sheng.Determination of Tantalum and Silicon in Ti-Al-Based Intermetallic Compound by ICP-AES[J].Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory,2005,22(4):858-860. |
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| Authors: | GAO Song SHI Xiao-li YANG Chun-sheng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ICP-AES Ti-Al-Based Intermetallic Compound Tantalum Silicon |
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