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| α、β-并三噻吩衍生物分子的二阶非线性光学性质 | |
| 引用本文： | 李渊.α、β-并三噻吩衍生物分子的二阶非线性光学性质[J].原子与分子物理学报,2016,33(2):209-214. |
| 作者姓名： | 李渊 |
| 作者单位： | 四川职业技术学院 |
| 基金项目： | 四川省教育厅自然科学项目（13ZB0032），四川职业技术学院科研创新团队（2014CX01） |
| 摘 要： | 采用密度泛函理论B3LYP/6-31+g(d)方法对二聚α、β-并三噻吩衍生物的18个分子(a~j2)进行几何构型优化,对其最优构型采用TD-DFT(TDB3LYP/6-31+g(d))计算电子吸收光谱,用有限场FF方法及自编程序计算二阶非线性光学(NLO)性质。计算结果表明,增加共轭链的含乙烯桥的二聚并三噻吩比不含乙烯桥者,βμ(或β0)大1.6—5.3倍;在含乙烯桥二聚α、β-并三噻吩分子(母体分子)末端引入含C=C或C≡C的基团(如-C≡CH与-C=C(CN)_2),比引入强供电子基团(如-N(CH_2CH_3)_2)、单纯吸电子基(如F原子)βμ(或β0)更大;尤其是端接-C=C(CN)2基团的二聚α、β-并三噻吩衍生物,其βμ(或β0)值为104数量级个原子单位(10-29esu),与母体分子相比βμ增大4.8~19.6倍,更有利于改善体系的二阶非线性光学性质,从而可获得良好的非线性光学材料. |
| 关 键 词： | 二聚并三噻吩，并三噻吩衍生物，密度泛函理论，电子吸收光谱，二阶非线性光学性质。 |
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