| 过渡金属W、Mn、V、Ti掺杂二维材料MoSi2N4的第一性原理计算 |
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| 引用本文： | 姚登浪,黄泽琛,郭祥,丁召,王一.过渡金属W、Mn、V、Ti掺杂二维材料MoSi2N4的第一性原理计算[J].原子与分子物理学报,2024,41(6):066004-160. |
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| 作者姓名： | 姚登浪 黄泽琛 郭祥 丁召 王一 |
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| 作者单位： | 1. 贵州大学大数据与信息工程学院;2. 贵州大学半导体功率器件可靠性教育部工程研究中心;3. 贵州省微纳与软件技术重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(62065003)；;贵州省自然科学基金(QKH-[2020]1Y271)； |
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| 摘 要： | 本文基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理计算了W、Mn、V、Ti替位掺杂二维MoSi2N4后的几何结构、电子结构以及光学性质的变化.电子结构分析表明W、Mn、W、Ti替位掺杂二维MoSi2N4后的禁带宽度分别为1.806 e V、1.003 e V、1.218 e V和1.373 e V;四种过渡金属掺杂后MoSi2N4的带隙类型没有发生改变，均为间接带隙半导体;W掺杂后的杂质能级靠近价带顶，费米能级靠近价带顶，为p型半导体，杂质能级为受主能级;Mn掺杂后的杂质能级靠近导带底，费米能级靠近导带底，为n型半导体;V和Ti掺杂后杂质能级位于费米能级附近，为复合中心;光学性质分析表明，在2 e V～4 e V的能量区间内，W掺杂结构的吸收波长为336 nm，体系发生红移;Mn、V和Ti替位掺杂后的吸收波长分别为320 nm、358 nm和338 nm，且掺杂体系均发生蓝移.
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| 关 键 词： | 二维MoSi2N4 第一性原理计算 掺杂 电子结构 光学性质 |
| 收稿时间： | 2023/1/19 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2023/2/15 0:00:00 |
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