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H+辐照前后W涂层表面的XPS分析
引用本文:杨斌,雷家荣,汪德志,黄宁康.H+辐照前后W涂层表面的XPS分析[J].原子与分子物理学报,2002,19(1):41-44.
作者姓名:杨斌  雷家荣  汪德志  黄宁康
作者单位:教育部辐射物理及技术重点实验室,四川大学原子核科学技术研究所,成都,610064
基金项目:国家自然科学基金(59781002),中国科学院离子束开放研究实验室资助项目,高校博士学科点专项科研基金.
摘    要:对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+辐照前后的XPS分析,研究了H+辐照对W的结合能的影响.分析结果表明,沉积的W膜中除了单质钨外,还有部分钨的氧化物,H+辐照结果表明,H+的辐照使钨的结合能向低能方向偏移;钨的氧化物有所减少,说明污染的氧化物在一定程度上被择优溅射掉.

关 键 词:离子束混合  W薄膜  H+辐照    XPS分析
文章编号:1000-0364(2002)01-0041-04
收稿时间:2001/9/30
修稿时间:2001年9月30日

XPS analyses for the tungsten films before and after H+ ion irradiation
YANG Bin,LEI Jia-rong,WANG De-zhi,HUANG Ning-kang.XPS analyses for the tungsten films before and after H+ ion irradiation[J].Journal of Atomic and Molecular Physics,2002,19(1):41-44.
Authors:YANG Bin  LEI Jia-rong  WANG De-zhi  HUANG Ning-kang
Abstract:XPS was used to measure the elements in the ion beam mixing deposited tungsten films on stainless steel substrates before and after H ion irradiation. The effect of H ion irradiation on the binding energy of the element tungsten and tungsten oxides in the deposited tungsten films was investigated. The experiment results show that the binding energy of one part of tungsten component shifted to the lower side due to H ion irradiation. It is found that the content of the tungsten oxides in the film was reduced by preferential oxygen sputtering after H ion irradiation.
Keywords:Ion beam mixing  Tungsten films  H    ion irradiation  XPS
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