| 长脉冲激光辐照下单层HfO2薄膜的温度场分析 |
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| 引用本文： | 李洪敬.长脉冲激光辐照下单层HfO2薄膜的温度场分析[J].应用光学,2014,35(5):912. |
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| 作者姓名： | 李洪敬 |
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| 作者单位： | 李洪敬:南京理工大学 理学院，江苏 南京 210094南京晓庄学院教师教育学院，江苏 南京 211171
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(11204139)；南京晓庄学院青年基金(2011NXY71) |
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| 摘 要： | 激光系统中的光学薄膜极易受到高能激光的辐照而产生热损伤，因此研究长脉冲激光作用下光学薄膜的温度场非常重要。建立了二维轴对称杂质模型，使用有限元方法计算了单层HfO2薄膜材料的瞬态温度分布，进一步分析了铂金杂质粒子的吸收系数、填满深度对膜层及其基底最大温升的影响。结果表明：相比于纯净HfO2薄膜，当薄膜中杂质粒子深度为100 nm时，其表面最大温度增加1倍左右；当粒子深度大于750 nm时，基底温度高于薄膜表面温度，从而可以使热损伤从薄膜基底开始。研究结果对于长脉冲激光系统中的光学薄膜的制备和预处理，具有一定的指导意义。
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| 关 键 词： | 长脉冲激光 HfO2薄膜 温度场 铂金粒子 |
| 收稿时间： | 2014/4/8 |
Temperature field analysis of single-layer HfO2 film induced by long-pulse laser |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | long-pulse laser HfO2 film temperature field Pt inclusion |
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