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直流磁控溅射Cr-Cr2O3复合金属陶瓷薄膜光学特性研究
引用本文:卢进军,潘永强.直流磁控溅射Cr-Cr2O3复合金属陶瓷薄膜光学特性研究[J].应用光学,2008,29(5).
作者姓名:卢进军  潘永强
作者单位:西安工业大学,光电工程学院,陕西,西安,710032
基金项目:西安工业大学校长科研基金
摘    要:采用直流反应磁控溅射技术在不同靶电流条件下制备了Cr-Cr2O3金属陶瓷薄膜,并利用椭偏仪测量了薄膜的光学常数.采用修正的M-G(Maxwell-Gannett)理论对不同靶电流条件下沉积的Cr-Cr2O3金属陶瓷薄膜的光学常数进行了理论计算,并将理论计算结果与实验数据进行了比较.结果表明:随着靶电流的增加,膜层中金属微粒体积百分比增加,金属微粒的平均半径随之增加,且金属微粒逐渐趋于扁圆形,理论计算结果与实验结果吻合较好.

关 键 词:直流磁控溅射  金属陶瓷薄膜  光学常数  修正M-G理论

Optical properties of Cr-Cr2O3 cermet films deposited by DC magnetron sputtering
LU Jin-jun,PAN Yong-qiang.Optical properties of Cr-Cr2O3 cermet films deposited by DC magnetron sputtering[J].Journal of Applied Optics,2008,29(5).
Authors:LU Jin-jun  PAN Yong-qiang
Abstract:
Keywords:
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