| Φ3英寸双面超导薄膜Jc均匀性测量 |
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| 引用本文： | 王小平,王霈文,李季,李弢,齐善学,华志强,古宏伟.Φ3英寸双面超导薄膜Jc均匀性测量[J].低温物理学报,2003,25(Z1):234-237. |
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| 作者姓名： | 王小平 王霈文 李季 李弢 齐善学 华志强 古宏伟 |
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| 作者单位： | 北京有色金属研究总院,北京,100088 |
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| 摘 要： | 临界电流密度Jc是评价超导薄膜质量的重要参数之一.采用Jc测量装置可以准确、快速、无损检测Φ2～3英寸双面膜的Jc均匀性.该装置是利用高温超导薄膜的超导转变对线圈内感应电压产生的变化这一原理,测量线圈由初级和次级组成.所用信号频率为20kHz.次级信号在同样频率下由锁相放大器检测.测量过程全部由计算机控制.对于超导微波滤波器应用所要求的高质量Φ2～3英寸双面超导薄膜材料,必须具有高的Jc和低的Rs值.采用该装置测量超导薄膜的Jc均匀性,与Rs对应关系进行分析,将有助于超导薄膜的质量控制.
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STUDY OF THE Jc HOMOGENEITY OF THE Φ3 INCH DOUBLE-SIDES SUPERCONDUCTING THIN FILMS |
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