| 混合物理化学气相沉积法(HPCVD)制备的MgB2超导厚膜样品的成分分析 |
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| 引用本文： | 贾璋,郭蕙璞,吕莹,王新峰,陈晋平,徐军,王晓楠,朱萌,冯庆荣.混合物理化学气相沉积法(HPCVD)制备的MgB2超导厚膜样品的成分分析[J].低温物理学报,2005,27(1):46-53. |
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| 作者姓名： | 贾璋 郭蕙璞 吕莹 王新峰 陈晋平 徐军 王晓楠 朱萌 冯庆荣 |
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| 作者单位： | 北京大学物理学系和国家人工微结构和界观物理重点实验室,北京,100871 |
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| 基金项目： | 国家超导中心(项目编号:G1999064602)及北京大学"挑战杯"基金和校长基金资助的课题. |
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| 摘 要： | 本介绍了基于混合物理化学气相沉积法(HPCVD)，以B2H6为硼源，在(000l)取向的Al2O3单晶衬底上，制备了MgB2超导体厚膜样品．该样品平均厚度约为40μm．其Tc(onset)=39K，Tc(0)=37．2K．X光衍射图显示该膜沿(101)方向生长，具有少量Mg和MgO杂相．SEM图像、X射线能量损失谱以及背散射电子衍射图证实了这两种杂相的存在，并显示该样品成分富镁．样品表面的镁与空气接触形成MgO膜，在一定程度上阻止了MgB2样品进一步被氧化．对于MgB2厚膜成膜过程及反应机理，我们提出了一种新的推断．
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| 关 键 词： | MgB2超导膜 SEM图 EDX X射线能谱 混合物理化学气相沉积法 |
| 修稿时间： | 2004年3月26日 |
THE STUDY ON COMPONENT FOR MgB2 THICK FILM PREPARED BY HPCVD |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | MgB_2 film SEM image EDX X-ray diffraction patterns |
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