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非对称型IGBT的低温特性研究
引用本文:张玉林,胡高宏,丘明,杨广辉,姚志豪.非对称型IGBT的低温特性研究[J].低温物理学报,2005,27(Z1):1012-1016.
作者姓名:张玉林  胡高宏  丘明  杨广辉  姚志豪
作者单位:1. 中国科学院电工研究所,北京,100080
2. 中国科学院研究生院,北京,100039
摘    要:研究表明,半导体材料在低温环境下性能可以得到很大改善.功率MOSFET低温下的优异特性已被深入揭示.本文研究了NPT型IGBT在77~300K之间的特性,实验表明,低温下NPT型IGBT的通态压降,开关损耗都有明显下降,关断拖尾现象也得到明显改善,而门槛电压略有上升.在此基础上,分析了其低温特性的物理机制以及在超导领域的潜在应用.

关 键 词:低温
修稿时间:2005年4月10日

CRYOGENIC OPERATION OF NON-PUNCH-THROUGH IGBTs
ZHANG YU-LIN,HU GAO-HONG,QIU MING,YANG GUANG-HUI,YAO ZHI-HAO.CRYOGENIC OPERATION OF NON-PUNCH-THROUGH IGBTs[J].Chinese Journal of Low Temperature Physics,2005,27(Z1):1012-1016.
Authors:ZHANG YU-LIN  HU GAO-HONG  QIU MING  YANG GUANG-HUI  YAO ZHI-HAO
Abstract:
Keywords:IGBT  NPT
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