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| 用等离子刻蚀工艺制备变厚超导铌微桥 | |
| 引用本文： | 平一梅,续竞荣,陈怀溥,刘聚成,孙自强,王其俊.用等离子刻蚀工艺制备变厚超导铌微桥[J].低温物理学报,1982(2). |
| 作者姓名： | 平一梅 续竞荣 陈怀溥 刘聚成 孙自强 王其俊 |
| 作者单位： | 西北大学低温物理科研组 (平一梅，续竞荣，陈怀溥，刘聚成，孙自强)，西北大学低温物理科研组(王其俊) |
| 摘 要： | 本文介绍了利用等离子刻蚀方法制备变厚超导铌微桥的工艺,报道了桥区薄膜厚度对微桥I-V特性曲线的影响. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |