| 极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计 |
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| 引用本文： | 孔伟金,吴福全,郝殿中,王吉明.极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计[J].光学技术,2003,29(6):696-698. |
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| 作者姓名： | 孔伟金 吴福全 郝殿中 王吉明 |
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| 作者单位： | 曲阜师范大学,激光研究所,山东,曲阜,273165 |
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| 摘 要： | 分析了光学薄膜厚度的极值控制法,并利用矩阵的方法给出了极值法膜厚控制误差。基于极值法膜厚控制的原理,利用由IC/5薄膜沉积控制器和晶震探头组成的反馈系统,控制蒸发速率的大小,光控的信号由可编程的计算机探测接收。分别对ZrO2/SiO2,膜料进行了两组交替镀制实验测试。结果表明,整个系统稳定性好,自动化程度高,膜厚控制精度在1 02%左右。
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| 关 键 词： | 膜厚控制 极值法光学 IC/5薄膜沉积控制器 晶震探头 反馈系统 |
| 文章编号： | 1002-1582(2003)06-0696-03 |
| 修稿时间： | 2003年2月10日 |
Study on extreme value method of monitoring thin film error and the improvement of the system |
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| Abstract: | The extreme value method of monitoring thin film and the error of the system are analyzed by using matrix. Based on optical monitor system, the system is improved, which consists of IC/5 thin film deposition controller and quartz oscillator detector , to control the rate of deposition . The detector signal is received by programmable computer. The test of interactive coating of ZrO2/SiO2 shows that the accuracy of the improved system with better stabilization and high automatic is about 102%. |
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| Keywords: | thickness monitor extreme value method IC/5 thin film deposition controller quartz oscillator detector feedback system |
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