| H2Ge=Si:与甲醛生成含锗螺硅杂环化合物反应机理的从头算研究 |
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| 引用本文： | 卢秀慧,王党生,明静静.H2Ge=Si:与甲醛生成含锗螺硅杂环化合物反应机理的从头算研究[J].化学物理学报,2016,29(2):193-198. |
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| 作者姓名： | 卢秀慧 王党生 明静静 |
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| 作者单位： | 济南大学化学化工学院, 济南 250022,济南大学化学化工学院, 济南 250022,济南大学化学化工学院, 济南 250022 |
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| 基金项目： | This work was supported by the National Natural Science Foundation of China (No.51102114). |
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| 摘 要： | 用MP2/AUG-CC-PVDZ 方法研究了单重态H2Ge=Si:与甲醛环加成反应的反应机理,该反应有一条主反应通道. 该反应所呈现的反应规律为：两反应物通过2+2]环加成反应首先生成了一锗杂四元环硅烯,由于该锗杂四元环硅烯中Si:原子的3p空轨道与甲醛的π轨道形成了π→p授受键,使锗杂四元环硅进一步与甲醛结合生成了一中间体. 由于该中间体中的Si:原子在过渡态之后发生了sp3杂化,该中间体经过渡态异构化为含锗的螺硅杂环化合物. 该研究结果从理论上揭示了单重态H2Ge=Si:及其衍生物(X2Ge=Ge:, X=H, Me, F, Cl, Br, Ph, Ar, …)与非对称性π 键化合物环加成反应的反应机制.
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| 关 键 词： | H2Ge=Si: 锗杂四元环硅烯 螺硅杂环化合物 势能面 |
| 收稿时间： | 7/2/2015 12:00:00 AM |
| 修稿时间： | 2015/11/27 0:00:00 |
Ab initio Study on Formation Mechanism of Spiro-Si-Heterocyclic Ring Compound Involving Ge from H2Ge=Si: and Formaldehyde |
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| Xiu-hui Lu,Dang-sheng Wang and Jing-jing Ming.Ab initio Study on Formation Mechanism of Spiro-Si-Heterocyclic Ring Compound Involving Ge from H2Ge=Si: and Formaldehyde[J].Chinese Journal of Chemical Physics,2016,29(2):193-198. |
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| Authors: | Xiu-hui Lu Dang-sheng Wang and Jing-jing Ming |
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| Institution: | School of Chemistry and Chemical Engineering, University of Jinan, Jinan 250022, China,School of Chemistry and Chemical Engineering, University of Jinan, Jinan 250022, China and School of Chemistry and Chemical Engineering, University of Jinan, Jinan 250022, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | H2Ge=Si: Four-membered Ge-heterocyclic ring silylene Spiro-Si-heterocyclic ring compound Potential energy profile |
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