|
|||||
|
|
| 在Ar和Xe低温基体中Fe（CO）3与CO扩散控制反应研究 | |
| 引用本文： | 郎嘉敏,郑企克.在Ar和Xe低温基体中Fe（CO）3与CO扩散控制反应研究[J].化学物理学报,1993,6(5):409-415. |
| 作者姓名： | 郎嘉敏 郑企克 |
| 摘 要： | 本文用２８０ｎｍ脉冲激光光解被Ａｒ和Ｘｅ基体隔离的Ｆｅ（ＣＯ）５以产生配位不饱和的Ｆｅ（ＣＯ）３。用傅里衰变换红外光谱仪实时监察光解停止后Ｆｅ（ＣＯ）３和ＣＤ的复合，并以Ｓｍｏｌｕｃｈｏｗｓｋｉ扩散控制反应动力学理论模型求得Ｆｅ（ＣＯ）３与ＣＯ的反应半径为４．０×１０＾－１０ｍ，ＣＯ在１０Ｋ的Ａｒ和Ｘｅ基体中的扩散系数分别为２．２×１０＾－２３ｍ＾２／ｓ和４．５×±∩＾－２３ｍ＾２／ｓ。 |
| 关 键 词： | 氩 氙 低温基体 化学活性分子 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |