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| 低温Ar基质中CF3I激光光氧化反应中间体研究 | |
| 引用本文： | 陈末华,王雪峰.低温Ar基质中CF3I激光光氧化反应中间体研究[J].化学物理学报,1998,11(1):37-42. |
| 作者姓名： | 陈末华 王雪峰 |
| 作者单位： | 复旦大学激光化学研究所 |
| 摘 要： | 研究了１０Ｋ Ａｒ基质中ＣＦ３Ｉ与Ｏ２经２６６ｎｍ脉冲激光辐照的光氧化反应，利用低温基质隔离技术和付里叶变换红外光谱法检测反应过程中产生的中间体有ＣＦ３ＯＯＩ、ＣＦ３ＯＯ、ＣＦ３Ｏ和ＣＦ３ＯＩ。通过量子化学从头算，对ＣＦ３ＯＯＩ的结构和振动频率进行计算，并对观察到的３个吸收峰进行了归属，首次确证ＣＦ３ＯＯＩ为新的中间体，根据ＣＦ３ＯＯ、ＣＦ３ＯＯＩ、ＣＦ３Ｏ、ＣＦ３ＯＩ随光照时间的生长和衰减，提出 |
| 关 键 词： | CF3I 激光光氧化 低温基质隔离 光氧化 中间体 |
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