| 用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析 |
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| 引用本文： | 林璇英,黄创君,林揆训,余运鹏,余楚迎,黄 锐.用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析[J].物理学报,2004,53(5):1558-1561. |
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| 作者姓名： | 林璇英 黄创君 林揆训 余运鹏 余楚迎 黄 锐 |
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| 作者单位： | 林璇英（汕头大学物理系,汕头,515063）
黄创君（汕头大学物理系,汕头,515063）
林揆训（汕头大学物理系,汕头,515063）
余运鹏（汕头大学物理系,汕头,515063）
余楚迎（汕头大学物理系,汕头,515063）
黄锐（汕头大学物理系,汕头,515063） |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000028208)资助的课题. |
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| 摘 要： | 关键词：
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| 关 键 词： | 拉曼散射光谱 多晶硅薄膜 晶体结构 射频辉光放电等离子体增强化学气相沉积技术 晶化度 |
| 文章编号： | 1000-3290/2004/53(05)/1558-04 |
Raman analysis of microstructure of polycrystalline silicon films deposited at low-temperatures from SiCl4-H2 |
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| Lin Xuan-Ying,Huang Chuang-Jun,Lin Kui-Xun,Yu Yun-Peng,Yu Chu-Ying,Huang Rui.Raman analysis of microstructure of polycrystalline silicon films deposited at low-temperatures from SiCl4-H2[J].Acta Physica Sinica,2004,53(5):1558-1561. |
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| Authors: | Lin Xuan-Ying Huang Chuang-Jun Lin Kui-Xun Yu Yun-Peng Yu Chu-Ying Huang Rui |
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Keywords： |
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