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n型金属氧化物半导体场效应晶体管噪声非高斯性研究
引用本文:李伟华,庄奕琪,杜磊,包军林.n型金属氧化物半导体场效应晶体管噪声非高斯性研究[J].物理学报,2009,58(10):7183-7188.
作者姓名:李伟华  庄奕琪  杜磊  包军林
作者单位:(1)西安电子科技大学技术物理学院,西安 710071; (2)西安电子科技大学微电子学院,宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室,西安 710071
基金项目:国家自然科学基金(批准号:60676053)资助的课题.
摘    要:基于n型金属氧化物半导体场效应晶体管(nMOSFET)噪声的数涨落模型,采用高阶统计量双相干系数平方和研究了nMOSFET噪声的非高斯性.通过对nMOSFET实际测试噪声的分析,发现nMOSFET器件噪声存在非高斯性;小尺寸器件噪声的非高斯性强于大尺寸器件;在器件的强反型线性区,其非高斯性随着漏压的增加而增加.文中还通过蒙特卡罗模拟和中心极限定理理论对nMOSFET噪声的非高斯性作了深入的探讨. 关键词: 噪声 非高斯性 n型金属氧化物半导体场效应晶体管 氧化层陷阱

关 键 词:噪声  非高斯性  n型金属氧化物半导体场效应晶体管  氧化层陷阱
收稿时间:5/1/2009 12:00:00 AM
修稿时间:7/1/2009 12:00:00 AM

Non-Gaussianity of noise in n-type metal oxide semiconductor field effect transistor
Li Wei-Hua,Zhuang Yi-Qi,Du Lei,Bao Jun-Lin.Non-Gaussianity of noise in n-type metal oxide semiconductor field effect transistor[J].Acta Physica Sinica,2009,58(10):7183-7188.
Authors:Li Wei-Hua  Zhuang Yi-Qi  Du Lei  Bao Jun-Lin
Abstract:On the basis of the number fluctuation model of n-type metal oxide semiconductor field effect transistor (nMOSFET),non-Gaussianity of noise in nMOSFET was studied by the quadratic sum of the bicoherence,which belongs to higher order statistics. Comparing nMOSFETs test noise with Monte Carlo simulative noise,we proved that there is non-Gaussianity in nMOSFTs noise, that the noises non-Gaussian degree in small size devices is stronger than that in large size devices, and that the non-Gaussian degree of nMOSFTs noise in strong inversion and linear regime increase with the drain-source voltage. The physical mechanism of nMOSFET noise is discussed from Monte Carlo simulation and the central limit theorem.
Keywords:noise  non-Gaussianity  n-type metal oxide semiconductor field effect transistor  oxide traps
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