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类富勒烯纳米晶CNx薄膜及其场致电子发射特性
引用本文:张兰,马会中,李会军,杨仕娥,姚宁,胡欢陵,张兵临.类富勒烯纳米晶CNx薄膜及其场致电子发射特性[J].物理学报,2004,53(3).
作者姓名:张兰  马会中  李会军  杨仕娥  姚宁  胡欢陵  张兵临
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划),国家自然科学基金
摘    要:利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了CNx薄膜,并利用x射线光电子能谱、x射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱等测试手段对所制备的CNx薄膜的微结构和成分进行了分析.研究了其场致电子发射特性.发现薄膜的结构和场发射特性与反应系中的甲烷、氮气及氢气的流量比有关,当甲烷、氢气及氮气流量比为8/50/50sccm时,制备的薄膜具有弯曲层状的纳米石墨晶体结构(类富勒烯结构)和很好的场发射特性.场发射阈值电场降低至1.1V/μm.当电场为5.9V/μm时,平均电流密度达70μA/cm2,发射点密度大于1×104cm-2.

关 键 词:类富勒烯  CNx薄膜  场致电子发射  微波等离子体增强化学气相沉积

Fullerene-like nano-crystalline CNx films and its characteristics of field electron emission
Abstract:
Keywords:
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