| 沉积温度对含氢非晶碳膜电学性质的影响 |
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| 引用本文： | 程珊华,宁兆元,康健,马春兰,叶超.沉积温度对含氢非晶碳膜电学性质的影响[J].物理学报,2000,49(10):2041-2046. |
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| 作者姓名： | 程珊华 宁兆元 康健 马春兰 叶超 |
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| 作者单位： | 苏州大学物理系，苏州 215006 |
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| 基金项目： | 江苏省自然科学基金(批准号：LL7723)和江苏省教委自然科学基金资助的课题. |
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| 摘 要： | 用苯作为源气体，使用微波电子回旋共振(ECR)等离子体气相沉积法在不同温度下制备了含 氢非晶碳薄膜，研究了沉积温度对薄膜的直流电阻率、击穿场强的影响，发现它们与沉积速 率密切相关.测量了薄膜的含氢量与Raman谱,利用Angus等人提出的随机共价网络模型对结果 作了分析.
关键词：
非晶碳薄膜
ECR等离子体化学气相沉积
直流电阻
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| 关 键 词： | 非晶碳薄膜 ECR等离子体化学气相沉积 直流电阻 |
| 收稿时间： | 2000-02-24 |
EFFECTS OF DEPOSITION TEMPERATURE ON ELECTRICAL PROPERTIES OF HYDROGENATED AMORP HOUS CARBON FILMS |
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| CHENG SHAN-HUA,NING ZHAO-YUAN,KAN JIAN,MA CHUN-LAN,YE CHAO.EFFECTS OF DEPOSITION TEMPERATURE ON ELECTRICAL PROPERTIES OF HYDROGENATED AMORP HOUS CARBON FILMS[J].Acta Physica Sinica,2000,49(10):2041-2046. |
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| Authors: | CHENG SHAN-HUA NING ZHAO-YUAN KAN JIAN MA CHUN-LAN YE CHAO |
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| Abstract: | Hydrogenated amorphous carbon films were deposited using ECR plasma with benzene as carbon source at varying substrate temperature. The effects of deposition te mperature on the resistivity and the intensity of electric break down have been investigated. The results show these properties depend on their growth condition s. The experiment results are further investigated using Raman spectra analysis. |
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| Keywords: | amorphous carbon film ECR plasma electrical property |
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