| 非晶微晶过渡区域硅薄膜的微区喇曼散射研究 |
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| 引用本文： | 张世斌,廖显伯,安龙,杨富华,孔光临,王永谦,徐艳月,陈长勇,刁宏伟.非晶微晶过渡区域硅薄膜的微区喇曼散射研究[J].物理学报,2002,51(8):1811-1815. |
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| 作者姓名： | 张世斌 廖显伯 安龙 杨富华 孔光临 王永谦 徐艳月 陈长勇 刁宏伟 |
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| 作者单位： | (1)中国科学院半导体所超晶格与微结构国家重点实验室,北京100083; (2)中国科学院半导体研究所凝聚态物理中心,表面物理国家重点实验室,北京100083 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展规划项目 (批准号 :G2 0 0 0 0 2 82 0 1)资助的课题~~ |
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| 摘 要： | 通过改变氢气对硅烷气体的稀释程度,并保持其他的沉积参量不变,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法成功地制备出处于非晶微晶相变过渡区域的硅薄膜样品.测量了样品的室温光电导和暗电导,样品的光电性能优越,在50mW·cm-2的白光照射下,光电导和暗电导的比值达到106.在室温下用微区喇曼谱研究了薄膜的微结构特性,用高斯函数对喇曼谱进行了拟合分析.结果表明,在我们的样品制备条件下,当H2和SiH4的流量比R较小时,样品表现出典型的非晶硅薄膜的结构特性;随流量比R的增大,薄膜表现出两相结构,其中的微晶成分随
关键词：
非晶硅
薄膜
喇曼散射
微结构
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| 关 键 词： | 非晶硅 薄膜 喇曼散射 微结构 |
| 收稿时间： | 2001-11-26 |
| 修稿时间： | 1/7/2002 12:00:00 AM |
Micro-Raman study on hydrogenated protocrystalline silicon films |
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| Zhang Shi-Bin,Liao Xian-Bo,An Long,Yang Fu-Hu,Kong Guang-Lin,Wang Yong-Qian,Xu Yan-Yue,Chen Chang-Yong and Diao Hong-Wei.Micro-Raman study on hydrogenated protocrystalline silicon films[J].Acta Physica Sinica,2002,51(8):1811-1815. |
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| Authors: | Zhang Shi-Bin Liao Xian-Bo An Long Yang Fu-Hu Kong Guang-Lin Wang Yong-Qian Xu Yan-Yue Chen Chang-Yong and Diao Hong-Wei |
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| Institution: | State Key Laboratory for Surfac |
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| Abstract: |
Keywords： |
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| Keywords: | amorphous silicon film Raman scattering microstructure |
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