首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

氧化钒薄膜微观结构的研究
引用本文:潘梦霄,曹兴忠,李养贤,王宝义,薛德胜,马创新,周春兰,魏龙.氧化钒薄膜微观结构的研究[J].物理学报,2004,53(6):1956-1960.
作者姓名:潘梦霄  曹兴忠  李养贤  王宝义  薛德胜  马创新  周春兰  魏龙
作者单位:中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室;北京 100039;河北工业大学材料科学与工程学院;天津 300130
基金项目:国家自然科学基金(批准号:19927001)资助的课题.
摘    要:采用直流磁控反应溅射在Si(100)衬底上溅射得到(001)取向的V2O5薄膜.x射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)的结果表明,氧分压影响薄膜的成分和生长取向,在氧分压0.4Pa时溅射得到(001)取向的纳米V2O5薄膜,即沿c轴垂直衬底方向取向生长的薄膜.V2O5薄膜经过真空退火得到(001)取向的VO2薄膜,晶体颗 关键词: 微观结构 氧化钒薄膜 择优取向 直流磁控溅射

关 键 词:微观结构  氧化钒薄膜  择优取向  直流磁控溅射
文章编号:1000-3290/2004/53(06)/1956-05
收稿时间:2003-07-28

Microstructural features of DC sputtered vanadium oxide thin films
Pan Meng-Xiao,Cao Xing-Zhong,Li Yang-Xian,Wang Bao-Yi,Xue De-Sheng,Ma Chuang-Xin,Zhou Chun-Lan and Wei Long.Microstructural features of DC sputtered vanadium oxide thin films[J].Acta Physica Sinica,2004,53(6):1956-1960.
Authors:Pan Meng-Xiao  Cao Xing-Zhong  Li Yang-Xian  Wang Bao-Yi  Xue De-Sheng  Ma Chuang-Xin  Zhou Chun-Lan and Wei Long
Abstract:microstructure, thin films of vanadium oxides, preferred orientation, DC magnetron sputtering
Keywords:microstructure  thin films of vanadium oxides  preferred orientation  DC magnetron sputtering
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《物理学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《物理学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号