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分数维方法研究GaAs薄膜中的极化子
引用本文:武振华,李华,严亮星,刘炳灿,田强*.分数维方法研究GaAs薄膜中的极化子[J].物理学报,2013,62(9):97302-097302.
作者姓名:武振华  李华  严亮星  刘炳灿  田强*
作者单位:1. 北京师范大学物理系, 北京 100875; 2. 装甲兵工程学院基础部, 北京 100072
摘    要:本文采用分数维方法, 在讨论Al0.3Ga0.7As衬底上GaAs薄膜的分数维基础上, 计算了GaAs薄膜中的极化子结合能和有效质量. 随着薄膜厚度的增加, 极化子结合能和质量变化单调地减小. 当薄膜厚度Lw<70 Å并且衬底厚度Lb<200 Å时, 衬底厚度的变化对薄膜中极化子的结合能和质量变化的影响比较显著, 随着衬底厚度的增加, 薄膜中极化子的结合能和质量变化逐渐变大; 当薄膜厚度Lw>70 Å或者衬底厚度Lb>200 Å时, 衬底厚度的变化对薄膜中极化子的结合能和质量变化的影响不显著. 研究结果为GaAs薄膜电子和光电子器件的研究和应用提供参考. 关键词: 分数维方法 GaAs薄膜 极化子 低维异质结构

关 键 词:分数维方法  GaAs薄膜  极化子  低维异质结构
收稿时间:2012-11-14

Polaron effect in a GaAs film: the fraction-dimensional space approach
Wu Zhen-Hua,Li Hua,Yan Liang-Xing,Liu Bing-Can,Tian Qiang.Polaron effect in a GaAs film: the fraction-dimensional space approach[J].Acta Physica Sinica,2013,62(9):97302-097302.
Authors:Wu Zhen-Hua  Li Hua  Yan Liang-Xing  Liu Bing-Can  Tian Qiang
Abstract:Within the framework of the fraction-dimensional space approach, the binding energy and the effective mass of a polaron confined in a GaAs film deposited on Al0.3Ga0.7As substrate have been investigated. It is shown that the polaron binding energy and mass shift decrease monotonously with increasing film thickness. For the film thickness of Lw<70 Å and the substrate thickness of Lb<200 Å, the substrate thickness will influence the polaron binding energy and mass shift. The polaron binding energy and mass shift increase with increasing substrate thickness. In the region Lw>70 Å or Lb>200 Å, the substrate thickness has no influence on the polaron binding energy and mass shift.
Keywords: fractional-dimensional approach GaAs film polaron low-dimensional heterostructure
Keywords:fractional-dimensional approach  GaAs film  polaron  low-dimensional heterostructure
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