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小角x射线散射确定TiNi薄膜中晶化粒子的长大激活能
引用本文:孟繁玲,李永华,徐耀,王煜明.小角x射线散射确定TiNi薄膜中晶化粒子的长大激活能[J].物理学报,2002,51(9):2086-2089.
作者姓名:孟繁玲  李永华  徐耀  王煜明
作者单位:吉林大学材料科学系,长春130023
摘    要:用小角x射线散射技术研究以直流磁控溅射方法制备TiNi合金薄膜其退火生成的晶化粒子的长大行为.发现在室温下溅射的TiNi合金薄膜存在小于1nm尺寸的微空洞,将退火后薄膜的小角x射线散射强度扣除退火前微空洞产生的小角x射线散射强度,用这种方法得到的散射强度遵从Porod定律;而用通常方法扣除背底得到的散射强度结果不满足Porod定律.TiNi合金薄膜在733—793K之间退火晶化粒子的长大激活能Eg=301kJmol. 关键词: TiNi薄膜 晶化粒子 长大激活能

关 键 词:TiNi薄膜  晶化粒子  长大激活能
文章编号:1000-3290/2002/51(09)/2086-04
收稿时间:2001-11-16
修稿时间:2001年11月16

Determination of activation energy of growth of the crystalline particles in TiNi thin films by SAXS
Meng Fan-Ling,Li Yong-Hu,Xu Yao and Wang Yu-Ming.Determination of activation energy of growth of the crystalline particles in TiNi thin films by SAXS[J].Acta Physica Sinica,2002,51(9):2086-2089.
Authors:Meng Fan-Ling  Li Yong-Hu  Xu Yao and Wang Yu-Ming
Abstract:
Keywords
Keywords:TiNi thin films  crystalline particles  activation energy of growth  
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