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具有纳米氧化层的磁性隧道结的热稳定性研究
引用本文:冯玉清,侯利娜,朱涛,姚淑德,詹文山.具有纳米氧化层的磁性隧道结的热稳定性研究[J].物理学报,2005,54(9):4340-4344.
作者姓名:冯玉清  侯利娜  朱涛  姚淑德  詹文山
作者单位:(1)北京大学技术物理系,北京 100871; (2)中国科学院物理研究所与凝聚态物理中心磁学国家重点实验室,北京 100080
基金项目:国家自然科学基金(批准号:50171078和50471054)和中国科学院海外杰出学者基金资助的课题.
摘    要:研究发现在磁隧道结的反铁磁层和被钉扎铁磁层之间插入一层纳米氧化层,可以使磁隧道结的退火温度增加了40℃,即明显地提高了磁隧道结的温度稳定性.通过卢瑟福背散射实验直接观察到产生这一效应的原因是该纳米氧化层有效地抑制了Mn元素在退火过程中的扩散,从而使TMR值在较高的退火温度下得以保持. 关键词: 磁性隧道结 隧穿磁电阻 热稳定性 纳米氧化层

关 键 词:磁性隧道结  隧穿磁电阻  热稳定性  纳米氧化层
文章编号:1000-3290/2005/54(09)/4340-05
收稿时间:2/2/2005 12:00:00 AM
修稿时间:2005-02-022005-02-28

Thermal stability of the magnetic tunnel junctions with nano-oxide layers
FENG Yu-qing,HOU Li-na,Zhu Tao,YAO Shu-de,Zhan Wen-Shan.Thermal stability of the magnetic tunnel junctions with nano-oxide layers[J].Acta Physica Sinica,2005,54(9):4340-4344.
Authors:FENG Yu-qing  HOU Li-na  Zhu Tao  YAO Shu-de  Zhan Wen-Shan
Abstract:The thermal stability is improved in a magnetic tunnel junction with a nano-oxide layer induced between the antiferromagnetic and pinned ferromagnetic layers, in which the annealing temperature is increased about 40℃. By using Rutherford backscattering spectroscopy, it has been found that the interdiffusion of Mn atoms, responsible for the decrease of TMR during the annealing process, is uppressed across such nano-oxide layer.
Keywords:Magnetic tunnel junction    tunneling magnetoresistance    thermal stability    nano-oxide layer
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