| 非晶金刚石薄膜的场致电子发射性能研究 |
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| 引用本文： | 赵建平,王曦,陈智颖,杨石奇,柳襄怀,施天生.非晶金刚石薄膜的场致电子发射性能研究[J].物理学报,1997,46(7):1444-1448. |
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| 作者姓名： | 赵建平 王曦 陈智颖 杨石奇 柳襄怀 施天生 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助的课题. |
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| 摘 要： | 利用真空磁过滤弧沉积技术制备出一种高sp3含量的非晶碳膜———非晶金刚石薄膜，并对这种非晶金刚石薄膜的场电子发射特性及其发射机理进行了研究．实验结果表明，在阈值电场低于20V/μm情况下，得到的场发射电流达20—40μA，薄膜的电子发射行为符合Fowler-Nordheim场发射理论．研究表明，这种非晶金刚石薄膜具有负的电子亲合势和较小的有效功函数以及相对较低的禁带宽度
关键词：
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| 关 键 词： | 非晶 金刚石薄膜 场致电子发射 薄膜 |
| 收稿时间： | 1996-11-11 |
FIELD EMISSION FROM AMORPHOUS DIAMOND FILMS |
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| ZHAO JIAN-PING,WANG XI,CHEN ZHI-YING,YANG SHI-QI,LIU XIANG-HUAI and SHI TIAN-SHENG.FIELD EMISSION FROM AMORPHOUS DIAMOND FILMS[J].Acta Physica Sinica,1997,46(7):1444-1448. |
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| Authors: | ZHAO JIAN-PING WANG XI CHEN ZHI-YING YANG SHI-QI LIU XIANG-HUAI and SHI TIAN-SHENG |
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| Abstract: | One new diamond form,the amorphous diamond (a-D) film,is prepared by filtered arc deposition.The field emission properties and mechanism of a-D film are presented,to our knowledge,for the first time.The field emission current of more than 20μA is detected below a field intensity of 20V/μm. This result is even superior to all previously reported results.The Fowler-Nordheim field- emission behavior has been observed in a-D films.The a-D films have a low work function and negative- electron affinity. |
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| Keywords: | |
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