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β-FeSi2薄膜制备与发光研究的进展
引用本文:朱放,肖志松,周博,燕路,张峰,黄安平.β-FeSi2薄膜制备与发光研究的进展[J].中国光学与应用光学,2009,2(2):119-125.
作者姓名:朱放  肖志松  周博  燕路  张峰  黄安平
作者单位:北京航空航天大学物理系,北京,100191
基金项目:国家自然科学基金,北京市科技新星计划资助项目,教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目,航空科学基金 
摘    要:过渡金属硅化物β-FeSi2因其原料价格低廉且利于环保而成为理想的硅基发光材料之一。探讨了β-FeSi2的发光机理,介绍了几种β-FeSi2薄膜制备方法并比较了不同制备方法的特点,总结了最近几年来β-FeSi2的研究进展和主要研究结果。结合作者已经取得的结果和积累的经验,提出了提高材料发光性能方法,认为良好的结晶质量和尽可能减少缺陷是β-FeSi2高效发光的基础,因此有必要探索新的制备方法并改善已有的制备工艺。另外,尝试在β-FeSi2薄膜中应用其它元素,也有可能增大发光效率;而有效激发β-FeSi2的p-i-n结构也是提高发光效率的方法之一。最后,讨论了β-FeSi2的发展趋势,展望了该种材料的发展前景。

关 键 词:β-FeSi2薄膜  薄膜制备  硅基发光材料  光电集成
收稿时间:2009-01-29
修稿时间:2009-03-13
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