离子刻蚀用的大面积射频离子束源 |
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引用本文: | 苏志伟,陈庆川.离子刻蚀用的大面积射频离子束源[J].核工业西南物理研究院年报,2004(1):107-109. |
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作者姓名: | 苏志伟 陈庆川 |
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摘 要: | 离子束技术已广泛应用于电子、材料、光学、医学和生物等多种领域,并取得了可观的技术效果与经济效益,尤其是在光学领域中采用此项技术可制造大刻划面积的全息离子刻蚀光栅,对提高高精度光谱分析仪器的性能具有十分重要的意义。随着技术的发展,对离子束源也提出了更高的要求,诸如:离子束流要求大,要有良好的均匀性,且要有好的离子束的光学品质等。本文介绍的离子束源是由电感耦合等离子体源及其引出系统构成。下面主要介绍电感耦合等离子体源及其引出系统,以及大面积均匀性离子束源的应用前景及其需要解决的关键问题。
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关 键 词: | 电感耦合等离子体 离子束源 射频天线 离子刻蚀 |
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