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| 光学工艺 微细加工技术与设备 | |
| 摘 要： | TN305.7 2004053922 利用背面曝光技术制造大高宽比SUB结构的一种新方法=A new method for fabrication of SUB structures with a high aspect ratio using a mask-back exposure technique刊,中]/伊福廷(中科院高能物理研究所,北京(100039)),缪鹏…∥半导体学报。—2004,25(1)。—26-29 |
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