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热沉积法制备纳米二硫化钼薄膜及其光电特性研究
引用本文:何杰,陈康烨,林拉,张国瑞,顾伟霞,马锡英.热沉积法制备纳米二硫化钼薄膜及其光电特性研究[J].物理实验,2013(9).
作者姓名:何杰  陈康烨  林拉  张国瑞  顾伟霞  马锡英
作者单位:苏州科技学院数理学院,江苏苏州,215011
基金项目:苏州市科技计划项目资助(No .SYG201121);江苏省大学生科技创新项目资助
摘    要:以M oS2粉末为原料,以氩气为携载气体,在400~600℃温度范围内利用热蒸发方法在硅衬底表面制备了不同厚度的M oS2薄膜.利用X射线衍射和扫描电子显微镜分析了M oS2薄膜的结构和表面形貌,发现M oS2薄膜由多晶M oS2粒子组成,颗粒均匀,平均纳米颗粒尺寸约为60 nm .利用紫外可见光光谱仪测量了其吸收特性,发现样品在720 nm附近有很强的吸收.应用霍尔效应和伏安法研究了M oS2/Si样品的接触特性和电子的运输特性,发现该异质结具有良好的整流特性,即正向电压下电流随电压呈指数增长,而在反向偏压下漏电流很小,电子迁移率可达到6.730×102 cm2/(V · s).实验结果表明MoS2薄膜具有良好的电学特性,可用来制备晶体管和集成电路等器件.

关 键 词:二硫化钼  纳米薄膜  热蒸发沉积

Electrical properties of nano MoS 2 thin film prepared by thermal evaporation deposition
HE Jie , CHEN Kang-ye , LIN La , ZHANG Guo-rui , GU Wei-xia , MA Xi-ying.Electrical properties of nano MoS 2 thin film prepared by thermal evaporation deposition[J].Physics Experimentation,2013(9).
Authors:HE Jie  CHEN Kang-ye  LIN La  ZHANG Guo-rui  GU Wei-xia  MA Xi-ying
Abstract:
Keywords:MoS2  nanometer films  thermal evaporation deposition
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