首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

空心阴极放电沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质
引用本文:杨平,冯贤平,施芸城,闫永辉.空心阴极放电沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质[J].物理实验,2005,25(9):13-16.
作者姓名:杨平  冯贤平  施芸城  闫永辉
作者单位:1. 东华大学,材料科学与工程学院,上海,200051
2. 波多黎各大学,物理系,圣胡安,00931-3343
3. 东华大学,物理系,上海200051
基金项目:上海市科学技术发展基金项目(No.0252nm110),教育部科学技术研究重点项目(No.03077),波多黎各大学启动基金
摘    要:利用空心阴极放电等离子体源在Si(100)衬底上沉积了氮化碳薄膜.用XRD,SEM,XPS及拉曼和红外吸收光谱对薄膜的结构、成分和化学键等进行了研究.XRD分析表明,制备的氮化碳薄膜为非晶结构.XPS分析证实了薄膜中以C—C,sp2CN和sp3CN键为主,并得出薄膜中的氮碳比为0.71,而sp3—CN相的含量也达到了0.39.拉曼和红外吸收光谱的结果也与XPS分析的键态结果一致.

关 键 词:氮化碳薄膜  直流空心阴极放电  XPS  拉曼光谱  红外吸收光谱
文章编号:1005-4642(2005)09-0013-04
收稿时间:2004-11-21
修稿时间:2005-01-17

Structure and bonding properties of carbon nitride films prepared by DC hollow cathode type discharge method
YANG Ping,FENG Xian-ping,SHI Yun-cheng,YAN Yong-hui.Structure and bonding properties of carbon nitride films prepared by DC hollow cathode type discharge method[J].Physics Experimentation,2005,25(9):13-16.
Authors:YANG Ping  FENG Xian-ping  SHI Yun-cheng  YAN Yong-hui
Abstract:
Keywords:CN film  DC-HCD  XPS  Raman spectra  FTIR
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号