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| 真空镀膜机攻装成热丝CVD系统 | |
| 引用本文： | 任志昂,唐碧玉.真空镀膜机攻装成热丝CVD系统[J].物理实验,2000,20(10):41-42. |
| 作者姓名： | 任志昂 唐碧玉 |
| 作者单位： | 任志昂（湘潭大学物理系,长沙,411105）;唐碧玉（湘潭大学物理系,长沙,411105） |
| 摘 要： | 通过重新设计和改造镀膜室，增添新引线和引进进气系统，将蒸发镀膜装置改装成新型热丝CVD（化学气相沉积）系统。性能参数测试结果表明，改装后的装置完全达到化学气相沉积系统的要求，能进行金刚石、BCN材料等物质的化学气相沉积，同时也完好地保留了原有真空镀膜的功能。 |
| 关 键 词： | 蒸发镀膜 改装 热丝CVD系统 真空镀膜机 |
| 修稿时间： | 2000年4月13日 |
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