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射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性
引用本文:张源涛,李万程,王金忠,杨晓天,马艳,殷宗友,杜国同.射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性[J].发光学报,2003,24(1):73-75.
作者姓名:张源涛  李万程  王金忠  杨晓天  马艳  殷宗友  杜国同
作者单位:吉林大学,电子科学与工程学院,集成光电子国家重点实验室,吉林,长春,130023
基金项目:国家 8 6 3计划资助项目 ( 2 0 01AA311130 )
摘    要:采用射频(RF)反应磁控溅射法在n-Si(001)衬底上外延生长ZnO薄膜。XRD谱测量显示出较强的(002)衍射峰,表明ZnO薄膜为c轴择优取向生长的。室温PL谱测量观察到了较强的紫外光发射和深能级发射。

关 键 词:射频磁控溅射  结构  光学特性  ZnO薄膜  光荧光谱  氧化锌薄膜  外延生长
文章编号:1000-7032(2003)01-0073-03

Structural and Optical Properties of ZnO Thin Films Grown by RF Reactive Magnetron Sputtering
ZHANG Yuan-tao,Li Wan-cheng,WANG Jin-zhong,YANG Xiao-tian,MA Yan,YIN Zhong-you,DU Guo-tong.Structural and Optical Properties of ZnO Thin Films Grown by RF Reactive Magnetron Sputtering[J].Chinese Journal of Luminescence,2003,24(1):73-75.
Authors:ZHANG Yuan-tao  Li Wan-cheng  WANG Jin-zhong  YANG Xiao-tian  MA Yan  YIN Zhong-you  DU Guo-tong
Abstract:
Keywords:ZnO thin film  RF magnetron sputtering  PL spectra
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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