| 射频磁控溅射法制备的CaWO_4∶Yb~(3+)薄膜及其发光性能研究 |
| |
| 引用本文： | 廖金生,刘宝,柳少华,钟来富,傅俊祥.射频磁控溅射法制备的CaWO_4∶Yb~(3+)薄膜及其发光性能研究[J].发光学报,2014,35(10):1234. |
| |
| 作者姓名： | 廖金生 刘宝 柳少华 钟来富 傅俊祥 |
| |
| 作者单位： | 江西理工大学冶金与化学工程学院,江西赣州,341000 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(51162012);江西省级大学生创新创业训练计划项目(201310407028);江西省自然科学基金(20142BAB203004);江西省教育厅基金(GJJ14410)资助项目 |
| |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法制备了CaWO4∶Yb3+薄膜并考察了沉积气压和时间对其结构、形貌和发光性能的影响。在不同的气压下,薄膜的XRD结果与四方相白钨矿结构相吻合,并且沿(004)方向择优生长。SEM图像显示,薄膜表面由椭圆形颗粒和孔洞组成。在260 nm激发下,Yb3+在994 nm处发出强近红外光,并且其强度随着溅射气压的升高总体是不规律的,而随着溅射时间的增加先增强后减弱。由于优良的发光性能,CaWO4∶Yb3+薄膜可作为潜在增强硅太阳能电池性能的发光转化膜。
|
| 关 键 词： | CaWO 薄膜 磁控溅射 下转换 |
| 收稿时间： | 2014/6/26 |
Photoluminescence Properties of Yb3+-doped CaWO4 Thin Films Grown by Radio Frequency Magnetron Sputtering |
| |
| LIAO Jin-sheng
,
LIU Bao
,
LIU Shao-hua
,
ZHONG Lai-fu
,
FU Jun-xiang.Photoluminescence Properties of Yb3+-doped CaWO4 Thin Films Grown by Radio Frequency Magnetron Sputtering[J].Chinese Journal of Luminescence,2014,35(10):1234. |
| |
| Authors: | LIAO Jin-sheng LIU Bao LIU Shao-hua ZHONG Lai-fu FU Jun-xiang |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | CaWO4 thin film magnetron sputtering downconversion |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
