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磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系
引用本文:李俊杰,王欣,卞海蛟,郑伟涛,吕宪义,金曾孙,孙龙.磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系[J].发光学报,2003,24(3):305-308.
作者姓名:李俊杰  王欣  卞海蛟  郑伟涛  吕宪义  金曾孙  孙龙
作者单位:1. 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林大学,材料科学系,吉林,长春,130023;延边大学,理工学院物理系,吉林,延吉,133002
2. 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林大学,材料科学系,吉林,长春,130023
3. 延边大学,理工学院物理系,吉林,延吉,133002
基金项目:教育部和吉林省科学技术委员会基金资助项目
摘    要:对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行.衬底温度(Ts)保持在350℃.衬底偏压(Vb)在0~-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CNx薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力。AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压Vb对CNx薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大,在-100V偏压下生长的CNx薄膜表面最光滑(粗糙度最小),同时对Si(001)衬底的附着力最好。最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CNx薄膜的最佳实验条件。

关 键 词:磁控溅射  CNx薄膜  附着力  粗糙度  衬底偏压  碳氮薄膜  薄膜测量
文章编号:1000-7032(2003)03-0305-04
修稿时间:2002年8月11日

Relations of Substrate Bias and Adhesion, Roughness of Carbon Nitride Films Synthesized by Magnetron Sputtering
Abstract:
Keywords:CN_x films  roughness  adhesion  substrate bias
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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