磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系 |
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引用本文: | 李俊杰,王欣,卞海蛟,郑伟涛,吕宪义,金曾孙,孙龙.磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系[J].发光学报,2003,24(3):305-308. |
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作者姓名: | 李俊杰 王欣 卞海蛟 郑伟涛 吕宪义 金曾孙 孙龙 |
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作者单位: | 1. 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林大学,材料科学系,吉林,长春,130023;延边大学,理工学院物理系,吉林,延吉,133002 2. 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林大学,材料科学系,吉林,长春,130023 3. 延边大学,理工学院物理系,吉林,延吉,133002 |
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基金项目: | 教育部和吉林省科学技术委员会基金资助项目 |
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摘 要: | 对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究。CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行.衬底温度(Ts)保持在350℃.衬底偏压(Vb)在0~-150V之间变化。利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CNx薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力。AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压Vb对CNx薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大,在-100V偏压下生长的CNx薄膜表面最光滑(粗糙度最小),同时对Si(001)衬底的附着力最好。最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CNx薄膜的最佳实验条件。
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关 键 词: | 磁控溅射 CNx薄膜 附着力 粗糙度 衬底偏压 碳氮薄膜 薄膜测量 |
文章编号: | 1000-7032(2003)03-0305-04 |
修稿时间: | 2002年8月11日 |
Relations of Substrate Bias and Adhesion, Roughness of Carbon Nitride Films Synthesized by Magnetron Sputtering |
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Abstract: | |
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Keywords: | CN_x films roughness adhesion substrate bias |
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