首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

复合外场中磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12缺陷周围磁畴壁的形貌特征
引用本文:曾文光,邓雪儿,林长净.复合外场中磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12缺陷周围磁畴壁的形貌特征[J].发光学报,2002,23(6):611-614.
作者姓名:曾文光  邓雪儿  林长净
作者单位:1. 东莞理工学院,计算机系,广东,东莞,523106
2. 香港城市大学,物理与材料科学系,香港
摘    要:用自组装系记录了外场分别为均速率增加的直流磁场,低频交变磁场和它们同时存在时,磁光薄膜(BiTm)3(FeGa)5O12一种缺陷周围磁畴壁的形貌特征。分析表明:三种不同取向磁畴壁的交界处往往是磁光薄膜的缺陷所在处;在低频交变场下,该缺陷区域出现无畴条块或区域,在直流场中无此现象。在低频交变场以及复合外场下该缺陷周围磁畴壁形成椭圆形图案。

关 键 词:复合外场  磁光薄膜  (BiTm)3(FeGa)5O12  缺陷  磁畴壁  形貌特征  复合外场
文章编号:1000-7032(2002)06-0611-04
修稿时间:2002年8月11日

Morphology of Domain Walls around the Defect in (BiTm)3(FeGa)5O12 Thin Film under the Applied Field
Abstract:
Keywords:magneto-optic thin film  defect  morphology of domain walls  composite field
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号