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用电子束热蒸发技术制备ZnO薄膜
引用本文:张彬,林碧霞,傅竹西,施朝淑.用电子束热蒸发技术制备ZnO薄膜[J].发光学报,2001,22(3):309-311.
作者姓名:张彬  林碧霞  傅竹西  施朝淑
作者单位:中国科学技术大学中国科学技术大学物理系
基金项目:自然科学基金资助项目 ( 5 9872 0 37)
摘    要:本文报道了用电子束热蒸发技术制备ZnO薄膜,薄膜具有(002)取向,通过电子扫描显微镜确认晶粒大小在150nm左右,现有的薄膜在525nm处有强的光致发光。

关 键 词:氧化锌薄膜  电子束热蒸发  光致发光光谱  ZnO  薄膜制备  电子扫描显微镜
文章编号:1000-7032(2001)03-0309-03
修稿时间:2001年3月22日

Preparation of ZnO Thin Films by Electron Beam Evaporation
ZHANG Bin,LIN Bi xia,FU Zhu xi,SHI Chao shu.Preparation of ZnO Thin Films by Electron Beam Evaporation[J].Chinese Journal of Luminescence,2001,22(3):309-311.
Authors:ZHANG Bin  LIN Bi xia  FU Zhu xi  SHI Chao shu
Abstract:
Keywords:ZnO  thin film  electron beam evaporation  PL
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